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Máquinas de depósito por CVD
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Con la inyección de un precursor en el plasma posterior a la descarga, el ULCoat permite la deposición de finas capas sobre la superficie tratada. El ULCoat es un sistema de vaporización e inyección de un precursor debajo de la boquilla ...
La máquina de es un sistema modelo de la farfulla del lote, que puede depositar diversas capas duras, capas suaves, las películas compuestas y las películas de lubricante sólidas en los substratos metálicos y nos-metálico de los materiales. ...
Shanghai Royal Technology Inc.
La máquina Multi950 es un sistema modificado para requisitos particulares de la deposición de vacío de las funciones del múltiplo para el R&d. Con la discusión del medio año con el equipo de la universidad de Shangai plomado por profesor ...
Shanghai Royal Technology Inc.
Vacío de acrílico de PVD Chrome que metaliza la máquina, logotipo ligero llevado de acrílico del coche del vacío del frontlit portátil de aluminio de Metallizer Resumen: El RTEP2525 PVD Chrome que metalizaba el sistema fue modificado ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Introducción del producto: La función del sistema de deposición química de vapor es depositar películas delgadas sobre el sustrato, mejorar las propiedades del material, fabricar dispositivos funcionales, lograr la modificación de la ...
... MCVD es la abreviatura de Modified Chemical Vapor Deposition (deposición química en fase vapor modificada), que se traduce como deposición química en fase vapor mejorada. Este método de producción de varillas prefabricadas fue propuesto ...
... La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) es un proceso que utiliza la energía del plasma para acelerar las reacciones químicas en la superficie de la oblea y producir películas finas a temperaturas inferiores a ...
... Se utiliza principalmente para generar revestimientos antirreflectantes de máxima calidad en la producción de células solares de silicio cristalino, y para la deposición de la película de pasivación en la cara posterior de las células ...
... Rendimiento de vanguardia con la máxima eficiencia de capital y ahorro de espacio El EPIK® 868 de Veeco es el sistema MOCVD de mayor rendimiento del sector de los LED que permite una uniformidad y repetibilidad superiores con una baja ...
VEECO
LEYBOLD OPTICS DLC es un sistema de deposición química en fase vapor asistida por plasma (PECVD) en alto vacío para aplicar recubrimientos antirreflectantes (AR) empleados principalmente en aplicaciones de infrarrojos (IR) de sistemas ...
Bühler Leybold Optics
... Equipos de recubrimiento para la investigación científica Los equipos experimentales de recubrimiento al vacío tienen las características de una bella apariencia, una estructura compacta, un rendimiento diverso, un funcionamiento sencillo ...
... El Voyager PIB-CVD es un sistema de deposición química en fase de vapor asistido por haz de iones de plasma (PIB-CVD) construido en torno a la fuente de iones Endeavor RF sin filamento. Esta fuente de iones patentada, por su diseño, tiene ...
... Ideal para pruebas de laboratorio y producción industrial de piezas pequeñas Equipo versátil con posibilidad de actualización a configuración multicapa Perfectamente adecuado para: Componentes pequeños y medianos (por ejemplo, en electrónica, ...
COMELEC
... El sistema de deposición Titan, de probada eficacia, es un sistema de deposición sin carga con elevador de cassettes al vacío. Puede configurarse para PECVD, HDCVD, PVD o ALD. El Titan Deposition proporciona procesos innovadores y de ...
Trion Technology
... Es adecuado para el crecimiento de alúmina densa y otros materiales de película de pasivación posterior en el proceso de batería perc de silicio cristalino de alta eficiencia. Cambio continuo entre varias películas; Soporta el mecanismo ...
Han's Laser Technology Co., Ltd
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