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Platinas de posicionamiento de manipulación de obleas
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Velocidad: 100, 15 mm/s
Carga: 750 kg
... personalizable, apertura de luz 460mm Ofrece una precisión de movimiento constante y fiable en una platina compacta y robusta Tiene una resolución de posicionamiento ultrafina y suficiente capacidad ...
Carrera: 1 mm - 40 mm
Velocidad: 1 mm/s - 200 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm
... LA92 Eje lineal UHV de alta velocidad Aplicación: Aplicaciones de alta resolución y escaneado rápido Ventajas: Posicionamiento rápido en UHV, también en vertical Características: Resolución excepcional, muy delgada, ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 100 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm
... LT300 Etapa lineal precisa de alta carga Aplicación: Etapa de transporte, etapa de exploración para cargas elevadas Ventaja: larga vida útil a pesar de la lubricación en seco Características: husillo con lubricación seca o husillo de ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 300 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,015 µm - 5 µm
... LA97 Etapa lineal nanométrica Aplicación: escaneado Ventaja: posicionamiento nanométrico, también en vertical Características: posicionamiento con resolución extrema y máxima rigidez puede equiparse ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 185 mm
Velocidad: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm
... LA95 - Aplicación: etapa de transporte, etapa de escaneado - Ventaja: larga vida útil a pesar de la lubricación en seco - Características: husillo con lubricación seca o husillo de bolas con lubricación líquida - Vacío: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 10 mm
Velocidad: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,2 µm - 5 µm
... Microplatina de alta resolución Aplicación: microplatina multiuso Ventaja: para escaneado de alta resolución Características: posicionamiento con muy alta resolución - Vacío: todos los rangos de presión HV /UHV hasta ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 50 mm
Velocidad: 1 mm/s - 50 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm
... KT105-50 Platina XY de alta resolución Aplicación: platina XY de vacío Ventaja: rápida y alta resolución Características: parámetros de guiñada y cabeceo tres veces mejores que la variante con apertur ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 100 mm
Velocidad: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidad: 0,4 µm - 5 µm
... KDT300 Etapa xy estable de alta carga Aplicación: etapa de transporte , etapa de exploración para cargas elevadas Ventaja: - larga vida útil a pesar de lubricación seca Características: larga vida útil a pesar de lubricación en seco - ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 16 mm
Velocidad: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Repetibilidad: 1 µm - 5 µm
... HT160 Etapa precisa de elevación vertical de cargas elevadas Aplicación: plataforma elevadora por vacío Ventaja: alta rigidez y carga Características: cuña con husillo a bolas - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10E-11 mbar - ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 16 mm
Velocidad: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Repetibilidad: 0,7 µm - 5 µm
... HDT255 Mesa elevadora de gran apertura de carga Aplicación: mesa elevadora de vacío Ventaja: - alta rigidez y carga, apertura Características: plataforma de cuña con apertura - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10E-11 mbar - ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 1 mm - 25 mm
Velocidad: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Repetibilidad: 0,3 µm - 5 µm
... HT240 Etapa precisa de elevación vertical de cargas elevadas Aplicación: Plataforma elevadora por vacío Ventaja: alta rigidez y carga Características: cuña con husillo a bolas - Vacío: todos los rangos HV / UHV / EUV hasta 10-11 mbar - ...
Steinmeyer Holding GmbH
Carrera: 30, 50, 100 mm
Velocidad: 5, 50 mm/s
... elevadas - Diferentes variantes de motor: Nanomotion, motor piezoeléctrico o motor lineal - Combinable con el sistema de posicionamiento XYZ - Combinable con mesas giratorias (por ejemplo, DT105) para aplicaciones giratorias - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Carrera: 100, 50 mm
Velocidad: 5 mm/s
Repetibilidad: 0,5 µm - 4 µm
... elevadas de hasta 10 kg La platina lineal está diseñada para posicionar cargas con alta rigidez en condiciones extremas, como en alto vacío y ultra alto vacío. Equipado con un freno de pinza piezoeléctrico, este sistema ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Carrera: 60, 130 mm
Velocidad: 5 mm/s
Repetibilidad: 0,5 µm - 4 µm
... simultáneamente. Permite un posicionamiento muy fino con cargas elevadas en ultravacío, incluso en dirección vertical. Áreas de aplicación Configuración de sistemas multieje, automatización de procesos, escaneo 3D, escaneo ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Carrera: 25 mm
Velocidad: 1,7 mm/s
... comparativamente altas. Campos de aplicación Posicionamiento de precisión en la industria y la investigación en ultra alto vacío y bajo radiación ultravioleta extrema, alineación de obleas, inspección ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Carrera: 16 mm
Velocidad: 1,1 mm/s
... cargas comparativamente altas. Campos de aplicación Posicionamiento de precisión en la industria y la investigación en ultra alto vacío y bajo radiación ultravioleta extrema, alineación de obleas, alineación ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Carrera: 5 mm
... reduce en gran medida la altura total, haciendo la etapa más ligera, más delgada y ahorrando espacio. La platina de alineación XXY, también llamada platina XY0 (thêta) está diseñada para aplicaciones ...
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