Medición de temperatura y reflectancia de superficies de obleas reales para epitaxia basada en GaN, 650 a 1300°C
Los pirómetros UV 400 y UVR 400 de Advanced Energy miden directamente la temperatura de la superficie de la oblea en lugar de la temperatura tradicional del susceptor/bolsillo.
-Amplio rango de temperatura (650 a 1300°C) que permite cubrir tanto el crecimiento del tampón principal como el crecimiento del MQW
-Medir el espesor de deposición con el reflectómetro adicional a 635 nm en el UVR 400
-Emisividad, transmitancia y subrango ajustables
Panorama general
Los pirómetros UV 400 y UVR 400 de Advanced Energy miden directamente la temperatura de la superficie de la oblea. Este método mejorado permite un control más preciso de la temperatura de las obleas, lo que conduce a un mayor rendimiento.
El UVR 400 incluye un reflectómetro adicional a 635 nm con una velocidad de medición de 0,5 kHz. Esto le permite medir el espesor de deposición.
Estos sistemas establecen un nuevo estándar para los procesos de producción de LED. Los resultados muestran una correlación fiable entre la temperatura de proceso y la longitud de onda del producto final.
Beneficios
-Mejora el rendimiento a través de la medición exacta de la temperatura de las obleas
-Medir la temperatura directamente en la capa de GaN usando instrumentación de longitud de onda UV
-Captura la medición de la reflectancia en tiempo real utilizando una fuente de luz pulsante rápida
-Evita la oscilación de la temperatura del residuo como se observa en los pirómetros con compensación de emisividad NIR
-Evita la inclinación de los datos debido al retraso en el muestreo (sin obturador encendido y apagado)
Características
-Temperatura fiable de la oblea con correlación de longitud de onda PL
-Salida analógica y RS485 con interfaces de protocolo UPP disponibles
-Subrango ajustable dentro del rango de temperatura
-El dispositivo soporta una atmósfera de nitrógeno y un vacío (< 10 mbar)
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