Basándose en la tecnología de CC pulsada bipolar de AE®, las fuentes de alimentación Ascent® AP amplían su capacidad de optimizar la salida con una conformación de pulsos avanzada, así como una gestión de arco progresiva de cuatro bloques que incluye inversión de tensión completa y parámetros de arco autoajustables. La tecnología de pulsos patentada de esta solución compacta inhibe los arcos de forma proactiva, mientras que su amplio rango operativo desbloquea las opciones de materiales para ampliar la flexibilidad del proceso de magnetrón único y doble y la innovación de materiales.
- Personalización del proceso con amplios parámetros de entrega de potencia
- Gestión avanzada del proceso mediante un enfoque escalonado de la mitigación de arcos
- Solución compacta de una sola unidad (hasta 30 kW)
- Tecnología Set Point Compensation™ para un rendimiento estable
- Amplio rango operativo para permitir una gran variedad de materiales de proceso
- Compatible con PowerInsight de Advanced Energy™
- Pulverización catódica precisa de películas dieléctricas y conductoras
- Mayor control del proceso, flexibilidad e innovación
- Alta calidad de película y rendimiento
- Películas repetibles y personalizables
- Mayores niveles de potencia con menos daños por arco
- Fácil integración y control
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