Fuente de plasma remota Xstream

El altamente eficiente Xstream® RPS disocia grandes volúmenes de NF3 y limpia rápidamente las cámaras, mejorando el rendimiento general de su herramienta. Su cámara de plasma presenta una aleación de aluminio de gran pureza y capacidades de refrigeración patentadas. Fabricado para durar años sin necesidad de reparaciones ni costosos revestimientos de la cámara, el Xstream RPS es la elección inteligente en cuanto a fiabilidad y rendimiento eficiente. - El RPS de alta fiabilidad maximiza el tiempo de actividad de la herramienta - Transporte eficaz de especies reactivas a la cámara de proceso para mejorar el rendimiento - Fuente de plasma acoplada por transformador (TCP) con red de adaptación activa (AMN) integrada - Frecuencia de funcionamiento de 225 kHz a 660 kHz - Modelos de potencia de 8 kW/10 kW - Eliminación de los costosos revestimientos de la cámara con aleación de aluminio personalizada y anodización dura de tipo III - Mejora el rendimiento y la durabilidad de la cámara mediante un sistema de refrigeración que minimiza el estrés térmico - Aumente la eficiencia y mejore la entrega de potencia al plasma con una red Active Match Network - Control preciso de la potencia y los procesos gracias a las mediciones de plasma en tiempo real - Conseguir un encendido del plasma fiable y reproducible mediante un sistema de encendido patentado