Magnetrón pulsado HiPIMS

cilíndricotubulares

El sputtering magnetrónico por impulsos de alta potencia o HiPIMS es un avance relativamente reciente en la tecnología de sputtering pulsado que utiliza impulsos de muy alta energía y corta duración para generar una descarga de plasma que ioniza un gran porcentaje de los átomos pulverizados. El flujo ionizado puede entonces guiarse para aumentar el control de las propiedades del revestimiento. Angstrom Sciences ha desarrollado una serie de cátodos para sputtering capaces de sostener estas densidades de potencia extremas de más de 1500 Watts/in2 para aplicaciones de producción continua de larga duración. Junto con nuestra refrigeración turbulenta patentada, los cátodos para sputtering magnetrónico pulsado de alta potencia de impulso de Angstrom Sciences incorporan canales de refrigeración adicionales en el cuerpo del ánodo y en las bridas de montaje para mantener una refrigeración óptima durante el funcionamiento del proceso. Otras características incluyen conjuntos de imanes pasivos y activos que mantienen la intensidad del campo en la superficie del cátodo constante durante toda la vida útil del cátodo, lo cual es crítico en el proceso HIPIMS tanto para la reducción de la formación de arcos como para la ionización óptima del material pulverizado. Estas características, junto con la sólida construcción del ánodo, permiten un rendimiento repetible y constante en aplicaciones exigentes como HiPIMS o cualquier aplicación de alta potencia y larga duración. Los magnetrones HiPIMS se refrigeran directamente y están disponibles en diseños circular, lineal y cilíndrico.