Controlador de proceso compacto Plasus

Los controladores de flujo de proceso son controladores de gas de proceso en bucle cerrado de alta velocidad, diseñados para el control de precisión in situ y en tiempo real de procesos de recubrimiento por vacío y tratamiento por plasma basados en sputtering reactivo. Son soluciones completas, compactas, flexibles, fáciles de usar y económicas que pueden integrarse fácilmente en sistemas nuevos o ya existentes. Tanto en herramientas de producción como de I+D, los controladores de flujo de procesos pueden aportar mejoras demostrables en la estabilidad, repetibilidad y rendimiento de los procesos. Existe una amplia gama de accesorios, incluidos sensores específicamente diseñados para aplicaciones de sputtering HIPMS. El control del proceso es esencial en las aplicaciones industriales de plasma para garantizar la fiabilidad y la alta calidad del proceso. Aquí, la espectroscopia de emisión óptica (OES) es una técnica de primera elección, ya que no afecta al plasma y porque es posible la monitorización en tiempo real de varias especies de plasma. Nuestros sistemas PLASUS EMICON vienen con todas las características que necesita para analizar, optimizar y controlar su aplicación de plasma. PLASUS es un fabricante líder de sistemas de monitorización espectroscópica de plasma. Fundada hace 20 años, nuestra principal competencia es el desarrollo de sistemas de control de procesos llave en mano para aplicaciones industriales y de I+D. Nuestros sistemas se aplican para la monitorización de plasma, el control de procesos, la optimización de procesos, el control de calidad y el análisis espectroscópico de plasma. Benefíciese de nuestros muchos años de experiencia y de nuestro know-how líder en la industria - ¡estaremos a su servicio y le asesoraremos exhaustivamente para su aplicación!