Respuesta rápida, suministro repetible de gases de proceso con niveles de pureza altos y ultra altos: ése es el rendimiento que ofrece la serie GF100 de controladores y medidores de flujo másico con sellado metálico. Diseñada para aplicaciones de semiconductores, MOCVD y otras aplicaciones de control de flujo de gases, la serie GF100 supera el estándar de fiabilidad de la industria de semiconductores, garantizando un rendimiento repetible y altamente estable a lo largo del tiempo. La tecnología MultiFloTM estándar permite que un MFC admita miles de tipos de gas y combinaciones de rangos sin necesidad de retirarlo de la línea de gas ni comprometer la precisión.
El resultado: mayor flexibilidad y eficacia del proceso combinadas con los más altos niveles de pureza del gas de proceso del sector para ayudar a maximizar el rendimiento y la productividad.
Características
Estabilidad a cero a largo plazo de <±0,5% de escala completa al año
Tiempos de asentamiento: 300 ms - <700 ms o 700 ms - <1 segundo
Caudales a escala real de hasta 300 slpm
Paso de caudal con junta totalmente metálica: opción de acabado superficial Ra de 4µ o 10µ pulgadas
El sensor Hastelloy® T-Rise resistente a la corrosión mejora la reproducibilidad de las mediciones a temperaturas elevadas
Programabilidad de gas y rango MultiFloTM: un dispositivo, miles de tipos de gas y combinaciones de rango sin necesidad de retirar la MFC de la línea de gas ni comprometer la precisión
Pantalla local
Suministro de gas SDS opcional
DeviceNetTM, protocolo L RS-485 e interfaces analógicas
Ventajas
Componentes de alto rendimiento sometidos a pruebas de fiabilidad siete veces superiores a los estándares de la industria de semiconductores
Paso de caudal totalmente metálico, resistente a la corrosión, con área de superficie reducida y volúmenes no barridos que garantizan un secado más rápido durante los pasos de purga
Con MultiFloTM, se pueden ajustar nuevos gases de proceso y/o rangos en menos de 60 segundos, sin necesidad de desmontar y calibrar
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