La serie GP200 es el primer controlador de flujo másico basado en la presión (P-MFC) totalmente insensible a la presión, diseñado específicamente para los procesos avanzados de grabado y deposición en la fabricación de semiconductores.
El P-MFC de la serie GP200 cuenta con una arquitectura patentada que supera las limitaciones de los P-MFC convencionales para proporcionar el suministro de gas de proceso más preciso incluso cuando se suministran gases de proceso de baja presión de vapor. Incluye varios aspectos de diseño exclusivos, entre ellos un sensor de presión diferencial integrado junto con una arquitectura de válvula aguas abajo que permite el suministro de gas de proceso más preciso en la más amplia gama de condiciones de funcionamiento de la industria.
Dado que la serie GP200 admite una gama tan amplia de condiciones de proceso, puede utilizarse como sustituto y actualización de muchas P-MFC y MFC térmicas tradicionales. Reduce la complejidad y el coste de propiedad del sistema de suministro de gas porque elimina la necesidad de componentes como reguladores de presión y transductores.
Obtenga más detalles sobre el diseño de la serie GP200 y vea cómo funciona.
Características
Medición de presión diferencial real
Funcionamiento a baja presión de entrada
Arquitectura de la válvula aguas abajo
Respuesta transitoria ajustada
Válvula de control sin fugas
La tecnología MultiFloTM ofrece una flexibilidad sin precedentes: un solo dispositivo puede programarse para miles de configuraciones diferentes de gas y rango de caudal sin necesidad de retirar la MFC de la línea de gas ni comprometer la precisión
La pantalla local indica el caudal, la temperatura, la presión y la dirección de la red
Interfaces DeviceNetTM, EtherCAT®, RS-485 L-Protocolo y analógicas
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