Caudalímetro másico térmico 4800 series

másicopara gasde acero inoxidable

Respuesta ultrarrápida para procesos de flujo en los que el tiempo es un factor crítico. Cuanto más rápido respondan sus medidores y controladores de caudal másico térmico, más eficientes y productivos serán sus procesos. Ésa es la principal ventaja de los controladores y medidores de la serie 4800: Un sensor térmico avanzado basado en MEMS, combinado con un algoritmo PID patentado para optimizar la respuesta de la válvula de control, hace posible que los controladores seleccionados de la serie 4800 ajusten rápidamente el caudal másico real a cualquier cambio en el punto de consigna. La interfaz de operador local (LOI) opcional proporciona una cómoda interfaz de usuario para ver, controlar y configurar los dispositivos, eliminando la necesidad de una electrónica secundaria remota. Características - Tiempo de respuesta del caudal (tiempo de establecimiento) <0,75 segundos - Innovador sensor MEMS y algoritmo PID patentado - Tamaño compacto inferior a la mitad del tamaño de las MFC térmicas típicas: 1" x 3" x 4" (25 mm x 76 mm x 101 mm) - La interfaz de operador local (LOI) opcional simplifica la configuración y el funcionamiento; descarga gratuita de LabVIEW VI para supervisar y poner a cero el dispositivo - Capacidad digital a través de RS-232 Ventajas - Adecuado para una amplia gama de gases comunes no corrosivos - El rápido tiempo de respuesta garantiza pasos rápidos durante los cambios de receta del proceso - Excelente para fabricantes de equipos originales: Su tamaño compacto facilita la integración en espacios reducidos de la máquina y acelera la instalación - La interfaz de operador local (LOI) opcional es una solución llave en mano para la indicación local, el control del punto de consigna y la configuración del dispositivo; elimina la necesidad de componentes electrónicos secundarios remotos - La variedad de opciones de comunicación facilita la adaptación a los requisitos del usuario Aplicaciones Tratamiento térmico, corte/soldadura y otros procesos térmicos Sistemas de deposición física en fase vapor (PVD) de películas finas/solares