Máquina de deposición CVD C50S
de película finade poliparaxilileno

máquina de deposición CVD
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Características

Método
CVD
Tipo de deposición
de película fina, de poliparaxilileno

Descripción

Ideal para la producción industrial a gran escala Herramienta potente con tiempo de proceso optimizado Perfectamente adecuado para: Producción de gran volumen de cualquier componente de tamaño pequeño y mediano Placas de circuito impreso y electrónicas de gran tamaño (por ejemplo, en aplicaciones aeronáuticas) Dimensiones totales (L x W x H) - 2600 x 700 x 2000mm Peso - 400kg Tamaño de la cámara - ∅ 450 x 660 mm Tamaño del utillaje - ∅ 340 x 610 mm Carga máxima del utillaje - 100kg Capacidad de carga del dimer - 500g Capacidad de bombeo - 80 m3/h Fuente de alimentación requerida - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Procesamiento de parileno - Tipo: C, D, N, F-VT4, F-AF4 Cámara termalizada - Rango de temperatura - 20 - 30°C Opciones - Compatible con todas las opciones / Elevador incluido

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