Máquina de deposición ALD C30H ALDde poliparaxilileno
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Características
- Método
- ALD
- Tipo de deposición
- de poliparaxilileno
Descripción
Ideal para pruebas de laboratorio y producción industrial de piezas pequeñas
Perfectamente adecuado para componentes de forma compleja en 3D
Deposición ALD de Al2O3 y TiO2
Fuente de plasma remota
Panel de gas con 4 líneas de precursores calentados por defecto, más a petición
Dimensiones totales (L x W x H) - 2250 x 1160 x 1450mm
Peso - 350 kg
Tamaño de la cámara - ∅ 295 x 370 mm
Tamaño del utillaje - ∅ 260 x 320 mm
Carga máxima del utillaje - 100kg
Capacidad de carga del dimer - 150g
Capacidad de bombeo - 40 m3/h
Fuente de alimentación requerida - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz
3 x 25A - 15kW
Cámara termalizada - Rango de temperatura: 20 - 80°C
Alimentación eléctrica: 3 x 400V + PE - 50Hz
3x 14A - 9kW
Plasma remoto
Fuente - Frecuencia: 1,7 - 3MHz
Potencia: 3000W
RF in situ
capacitiva
Fuente de Plasma - -
Estándar
procesable
materiales - Parileno: C, D, N, F-VT4, F-AF4
ALD: Al 2 O 3 , TiO
Proceso
temperatura - Parileno: temperatura ambiente
ALD: 60 - 80°C
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