Los sistemas Infinity PSIBE e Infinity LL Etch ofrecen un grabado de alto rendimiento, fresado de perfiles de películas finas críticas, fresado de ángulos de inclinación y mucho más. Los expertos de Denton Vacuum trabajarán con usted para garantizar que su configuración esté optimizada para satisfacer sus necesidades y especificaciones exactas, y su sistema recibirá el apoyo completo de nuestro equipo técnico.
Mejora del rendimiento del proceso de semiconductores con el control del punto final
Grabado de semiconductores compuestos en Au
Control de procesos y evaluación del diseño de chips
Grabado de patrones
Servicio de procesamiento de obleas
El flexible y versátil sistema de lotes PSIBE ocupa poco espacio y es perfecto para plantas de producción con poco espacio. Está diseñado para aplicaciones de rendimiento bajo o medio y es una solución perfecta para los mercados de MEMS, semiconductores y almacenamiento de datos, así como para óptica, lentes, producción piloto y soporte de fundición.
El sistema de grabado en vacío LL (Load Lock) de Denton es una solución flexible diseñada para soportar el procesamiento de alto rendimiento para aplicaciones exigentes y de gran volumen, como la producción piloto y el apoyo a la fundición en los mercados de semiconductores, almacenamiento de datos, MEMS y procesamiento de obleas.
Ambos sistemas son compatibles con las salas blancas de clase 1000 (estilo salón de baile), cumplen la normativa ESD y disponen de asistencia química para el grabado. El sistema LL Etch puede configurarse para un solo chip o para varios chips y el sistema PSIBE permite una transferencia manual de muestras rentable con un solo bloqueo de carga de obleas.
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