Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón Discovery 635

La plataforma Discovery, probada en producción, puede manejar sustratos de hasta 300 mm. La configuración en racimo la hace adecuada para aplicaciones multicapa, sensibles al oxígeno y con requisitos de alto rendimiento. La plataforma admite el sputtering DC, DC pulsado y RF, que cuenta con la configuración de cátodo único para lograr una alta uniformidad, así como la capacidad de co-sputtering confocal. La tecnología PEM, propiedad de Denton, permite el sputtering reactivo de alta velocidad de óxidos y nitruros metálicos. También está disponible la deposición asistida por iones. Gracias a los obturadores electro-neumáticos independientes de la fuente y a los conjuntos de chimenea, se puede evitar la contaminación cruzada de su material fuente. Las múltiples configuraciones de bombas, incluidas las criogénicas y las turbo, así como las opciones de colocación de las bombas, proporcionan la flexibilidad de diseño necesaria para satisfacer sus requisitos de proceso y productividad. Producción de gran volumen Filtros ópticos avanzados Recubrimientos biocompatibles para implantes médicos Resistencias y sensores de película fina Películas metálicas y dieléctricas para obleas Fabricación de circuitos híbridos de gran superficie Contactos metálicos de semiconductores compuestos Investigación y desarrollo El sistema de sputtering magnetrónico Discovery ofrece versatilidad y fiabilidad a la vez que satisface las necesidades de producción de gran volumen. Este sistema de deposición de películas finas puede acomodar una configuración de alta uniformidad de un solo cátodo para la fabricación de grandes volúmenes, o hasta 4 cátodos confocales con ajuste triaxial del desplazamiento, la distancia del blanco al sustrato y el ángulo para un recubrimiento uniforme. Cada cátodo puede optimizarse para un método de deposición o material objetivo diferente.