Máquina de deposición por pulverización catódica Discovery V

por pulverización catódica con magnetrónpara la industria de la microelectrónica

La Discovery V es óptima para su uso en la plataforma Versa Cluster. Proporciona una uniformidad ajustada, una alta tasa de profundidad, un tamaño reducido y un alto tiempo de funcionamiento que ofrece versatilidad y fiabilidad a la vez que satisface las necesidades de producción de gran volumen. Resistencias y sensores de película fina Películas metálicas y dieléctricas para obleas Contactos metálicos de semiconductores compuestos Investigación y desarrollo El Discovery V es un módulo de deposición rápida y uniforme, totalmente integrado en la plataforma Versa, que utiliza un cátodo planar para el sputtering de magnetrón. Utiliza un cátodo de 300 mm y puede utilizarse para aplicaciones de obleas estándar de hasta 200 mm. Emplea un paquete de imanes giratorios ajustables para optimizar la uniformidad y proporciona altas tasas para la fabricación de grandes volúmenes. En una configuración de cátodo planar, el cátodo se monta directamente sobre el sustrato. Con esta configuración, se puede obtener una estrecha uniformidad en un lado del sustrato durante el sputtering para propiedades como el espesor de la película, la resistencia de la lámina y el índice de refracción. Es la configuración ideal para aplicaciones en las que el co-sputtering no es un requisito. Esta configuración del cátodo también ofrece un mayor rendimiento, una buena capacidad de despegue y una alta tasa de deposición.