Máquina de deposición CVD Voyager PIB-CVD

por pulverización catódicade película finaóptica

El Voyager PIB-CVD es un sistema de deposición química en fase de vapor asistido por haz de iones de plasma (PIB-CVD) construido en torno a la fuente de iones Endeavor RF sin filamento. Esta fuente de iones patentada, por su diseño, tiene un control independiente tanto de la densidad de la corriente de iones como de la energía de los iones en un amplio rango, capaz de producir recubrimientos multicapa de alta tasa de deposición. Es capaz de depositar revestimientos de alta velocidad y calidad a baja temperatura (por debajo de 100 °C), lo que la hace compatible con los típicos sustratos de plástico, como el policarbonato (PC) y el polimetilmetacrilato (PMMA). El sistema Voyager PIB-CVD se ha diseñado centrándose en los nanocompuestos de tipo diamante (DLN) para proporcionar la mejor flexibilidad de su clase para recubrir piezas planas (por ejemplo, obleas de silicio) y tridimensionales (por ejemplo, lentes ópticas). El sistema está configurado con el sistema de control Process Pro de Denton, lo que permite un control del proceso automatizado y manual. Además, existe una configuración opcional de cámara propia para permitir el co-sputtering durante la deposición de DLN para películas de DLN (Me-DLN). Esta configuración es única en el sector y abre la posibilidad de desarrollar nuevas películas de DLN con propiedades mecánicas, eléctricas y tribológicas personalizables. La plataforma Voyager PIB-CVD proporciona películas de nanocompuestos tipo diamante (DLN) para: Pantallas flexibles y resistentes a los arañazos Recubrimientos antidesgaste para productos médicos y comerciales Películas protectoras transparentes a los infrarrojos Recubrimientos hidrofóbicos