Los sistemas de plasma de Diener electronic se han establecido desde hace tiempo en los sectores industriales más diversos. Con el sistema de plasma de baja presión Femto, puede confiar en una tecnología de plasma frío en vacío moderna y preparada para el futuro. El volumen de la cámara de 2 a 3 litros de este sistema de plasma ofrece espacio suficiente para servir al laboratorio y a la producción de pequeñas series.
El tratamiento con plasma a baja presión es una técnica probada para la limpieza ultrafina controlada, la mejora de la adherencia (activación y grabado) y el recubrimiento de películas finas sobre superficies de sustratos. El plasma se genera aplicando voltaje de alta frecuencia en la cámara de vacío. En el proceso, se ioniza el gas de proceso allí introducido.
Campos de aplicación:
Limpieza sin COV de residuos orgánicos
Activación antes de pintar, pegar, encapsular, ...
Grabado de PTFE, fotorresistencia, capas de óxido, ...
Recubrimientos superhidrofóbicos e hidrofílicos
Características principales:
Carcasa de sobremesa o de pie
Cámaras de vacío: Acero inoxidable, aluminio, vidrio borosilicato o cuarzo
Volumen de la cámara: 2 - 3 litros
Suministro de gas: Válvulas de aguja o controladores de flujo másico (MFC)
Frecuencias del generador: 40 kHz / 0 - 100 W; 100 kHz / 0 - 500 W; 13,56 MHz / 0 - 200 W; 2,45 GHz / 0 - 300 W
Controles: Semiautomático, interruptor giratorio, Control básico por PC (Windows CE), Control total por PC (Windows 10 IoT)
Medición de la presión: Pirani, manómetro de capacidad
Los sistemas de plasma Femto se utilizan principalmente en las siguientes áreas:
Analítica, arqueología, automoción, departamentos de investigación y desarrollo, tecnología de semiconductores, producción de lotes pequeños, tecnología de plásticos, tecnología médica, tecnología de microsistemas, tecnología de sensores, esterilización, tecnología textil
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