Los sistemas de plasma de Diener electronic se han establecido desde hace tiempo en los sectores industriales más diversos. Con el sistema de plasma de baja presión Nano, puede confiar en una tecnología de plasma frío en vacío moderna y preparada para el futuro. El volumen de la cámara de 18 a 24 litros de este sistema de plasma ofrece espacio suficiente para servir al laboratorio y también a la producción en serie.
El tratamiento con plasma a baja presión es una técnica acreditada para la limpieza ultrafina controlada, la mejora de la adherencia (activación y grabado) y el recubrimiento de capas finas sobre superficies de sustratos. El plasma se genera aplicando voltaje de alta frecuencia en la cámara de vacío. En el proceso, el gas de proceso allí introducido se ioniza.
Campos de aplicación:
Limpieza sin COV de residuos orgánicos.
Activación antes de pintar, pegar, encapsular, ...
Grabado de PTFE, fotorresistencia, capas de óxido, ...
Recubrimientos superhidrofóbicos e hidrofílicos.
Características principales:
De sobremesa o de pie
Cámaras de vacío: Acero inoxidable, aluminio, vidrio borosilicato o cuarzo
Volumen de la cámara: 18 - 24 litros
Suministro de gas: Controladores de flujo másico (MFC)
Frecuencias del generador: 100 kHz (0 - 500 W), 80 kHz (0 - 1000 W), 13,56 MHz (0 - 300 W), 2,45 GHz (0 - 600 W)
Mandos: Semiautomático, interruptor giratorio, control básico por PC (Windows CE), control total por PC (Windows 10 IoT)
Medición de la presión: Pirani, manómetro de capacitancia
Los sistemas de nano plasma se utilizan principalmente en las siguientes áreas:
Analítica, Arqueología, Automoción, Departamentos de investigación y desarrollo, Tecnología de semiconductores, Producción de pequeños lotes, Tecnología de plásticos, Tecnología médica, Tecnología de microsistemas, Tecnología de sensores, Esterilización, Tecnología textil.
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