Horno de cámara JETFIRST

térmicode vacíocompacto

El sistema ECM JetFirst RTP es un horno de lámpara compacto y robusto apto para el Rapid Thermal Annealig (RTA) de una amplia gama de sustratos y estructuras de materiales (Electronic Grade Si, vidrio de acero, SoG c-Si, III-V, II-VI, Germanio, cuarzo, cerámica, etc.) con un tamaño de 100 mm a 300 mm de diámetro. Este horno de lámpara está equipado con una cámara de reactor metálica refrigerada por agua, por lo que tiene un efecto de memoria ultrabajo. VENTAJAS Y BENEFICIOS El sistema JetFirst es un horno de lámpara que ha sido desarrollado para satisfacer los requisitos de universidades y laboratorios de investigación. El sistema de control de medición de temperatura proporciona un control térmico preciso y repetible en todo el rango de temperatura. El conjunto de lámparas, la brida superior y la ventana de cuarzo están montados en una tapa superior giratoria, lo que permite un acceso total a la cámara para facilitar la carga y descarga de la oblea. Hay disponibles susceptores de grafito recubiertos de carburo de silicio para el procesamiento de diversas muestras pequeñas y semimateriales compuestos. Si se solicita, se puede suministrar una cámara de proceso de repuesto para evitar la contaminación cruzada en caso de que deban realizarse varios procesos en el mismo reactor. Las características de alta fiabilidad y alto rendimiento del JetFirst permiten la producción a pequeña escala. El proceso puede realizarse a presión atmosférica o al vacío. Un sistema PID proporciona un control térmico preciso y repetible en todo el rango de temperaturas. El control del proceso RTP se realiza por ordenador, con un supervisor dedicado PIMS que permite la programación de recetas y la supervisión de todo el sistema RTP.