Horno de cámara +40 °C ... +200 °C | VAC seriestratamiento térmicode gasde vacío
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Características
- Configuración
- de cámara
- Función
- tratamiento térmico
- Fuente de calor
- de gas
- Atmósfera
- de vacío
Descripción
Estas unidades se han diseñado exclusivamente para el tratamiento térmico del vacío tal como defoaming, deaerating, endureciendo o secándose, los procesos esenciales en la producción de componentes electrónicos.
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Catálogos
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