Horno de cámara +60 °C ... +300 °C | PVC, PVHC seriestratamiento térmicoeléctrico
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Características
- Configuración
- de cámara
- Función
- tratamiento térmico
- Fuente de calor
- eléctrico
Descripción
Utilizado extensivamente en la hornada, tratamiento térmico/el secarse de las obleas de semiconductor, cristales líquidos, discos y otros componentes y dispositivos requiriendo condiciones limpias del aire.
Además de la instrumentación estándar que ofrece la programación de dos etapas, la M-instrumentación permite la operación programada en hasta 18 pasos.
La limpieza de la clase 100 es alcanzada empleando un filtro de HEPA y un sistema laminar detrás-a-delantero de la circulación.
El modelo de alto rendimiento (modelo de PVHC) proporciona funcionamiento estable incluso durante calentamiento o refrescarse en las temperaturas altas de 150°C (+302°F) o más.
Compatible con la red del compartimiento, sistema de E-BUS.
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