Sistema de posicionamiento módulos combinados Z3TM+
4 ejesXYvertical

Sistema de posicionamiento módulos combinados - Z3TM+ - ETEL S.A. - 4 ejes / XY / vertical
Sistema de posicionamiento módulos combinados - Z3TM+ - ETEL S.A. - 4 ejes / XY / vertical
Sistema de posicionamiento módulos combinados - Z3TM+ - ETEL S.A. - 4 ejes / XY / vertical - imagen - 2
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Características

Número de ejes
4 ejes, XY
Estructura
rotativo, vertical, piezoeléctrico
Aplicaciones
para la industria de los semiconductores
Otras características
compacto, módulos combinados
Repetibilidad

0,03 µm, 2 µm

Carga

2,5 kg
(5,51 lb)

Carrera

2 mm
(0,08 in)

Velocidad

0,1 m/s
(0,33 ft/s)

Descripción

El módulo Z3TM amplía la gama de plataformas de movimiento, ofreciendo cuatro grados de libertad independientes para aplicaciones avanzadas de semiconductores. Diseñado para aplicaciones avanzadas de semiconductores, este módulo ofrece cuatro grados de libertad independientes - 3 ejes rotativos (RX, RY, RZ) y uno vertical (Z) - consiguiendo un rendimiento excepcional en términos de precisión y dinámica a nivel de oblea en un diseño compacto. Al sustituir a las costosas soluciones piezoeléctricas, se eliminan los problemas de histéresis y se consigue una resolución, precisión y repetibilidad de nivel nanométrico con una mayor dinámica. El soporte integrado para la alineación de muestras permite un control preciso de la planitud a nivel de oblea, simplifica el trabajo de diseño, reduce la complejidad de los equipos y aumenta la fiabilidad para acelerar la comercialización y mejorar la relación precio/rendimiento. Características Recorrido total: Z fina ±2 mm, inclinación de la punta ±0,08° y theta infinito Tiempo de movimiento y asentamiento Z fina: 100 µm @ ±30 nm en 60 ms / Theta: 90° @ ±40 µdeg en 360 ms Estas son las principales características: Rotación Theta infinita Proporciona una rotación continua para un posicionamiento versátil. Corrección de inclinación e inclinación Corrección sobre ±0,08° de recorrido para mejorar la nivelación y el movimiento y asentamiento. Alimentación de vacío Permite el paso de vacío hasta el nivel del plato. Excentricidad radial Garantiza una excentricidad radial precisa inferior a ±3,5 µm.

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Catálogos

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.