El módulo Z3TM amplía la gama de plataformas de movimiento, ofreciendo cuatro grados de libertad independientes para aplicaciones avanzadas de semiconductores.
Diseñado para aplicaciones avanzadas de semiconductores, este módulo ofrece cuatro grados de libertad independientes - 3 ejes rotativos (RX, RY, RZ) y uno vertical (Z) - consiguiendo un rendimiento excepcional en términos de precisión y dinámica a nivel de oblea en un diseño compacto. Al sustituir a las costosas soluciones piezoeléctricas, se eliminan los problemas de histéresis y se consigue una resolución, precisión y repetibilidad de nivel nanométrico con una mayor dinámica.
El soporte integrado para la alineación de muestras permite un control preciso de la planitud a nivel de oblea, simplifica el trabajo de diseño, reduce la complejidad de los equipos y aumenta la fiabilidad para acelerar la comercialización y mejorar la relación precio/rendimiento.
Características
Recorrido total: Z fina ±2 mm, inclinación de la punta ±0,08° y theta infinito
Tiempo de movimiento y asentamiento Z fina: 100 µm @ ±30 nm en 60 ms / Theta: 90° @ ±40 µdeg en 360 ms
Estas son las principales características:
Rotación Theta infinita
Proporciona una rotación continua para un posicionamiento versátil.
Corrección de inclinación e inclinación
Corrección sobre ±0,08° de recorrido para mejorar la nivelación y el movimiento y asentamiento.
Alimentación de vacío
Permite el paso de vacío hasta el nivel del plato.
Excentricidad radial
Garantiza una excentricidad radial precisa inferior a ±3,5 µm.
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