El Z3TM+ amplía la cartera de módulos al servicio de las plataformas de movimiento. Este módulo añade cuatro grados de libertad independientes, a saber, los ejes Tip, Tilt, Theta y Z incorporados en un eje hueco Theta ampliado. Una de las configuraciones incluye un eje Z que ahora cuenta con un doble eje Z apilado; uno fino (FZ) y otro grueso (CZ). Por su diseño, este módulo opcional permite el cumplimiento completo de los perfiles de movimiento de obleas para aplicaciones avanzadas de semiconductores, proporcionando así a los fabricantes de maquinaria una solución llave en mano para cualquier tecnología de semiconductores. El reducido tamaño del producto establece una densidad récord en términos de número de funciones por volumen, mientras que su rendimiento establece nuevos estándares de mercado en cuanto a precisión y dinámica a nivel de oblea.
El eje Z fino del Z3TM+, basado en flexores, permite a los fabricantes de maquinaria migrar desde soluciones piezoeléctricas costosas y obsoletas, eliminando sus problemas de histéresis al tiempo que admite una resolución, precisión y repetibilidad de nivel nanométrico, a una dinámica aún mayor. Con soporte integrado para la correcta alineación de la muestra, el módulo permite un mayor control de la planitud de las obleas, con respecto a los cabezales del equipo, por medio de sus ejes adicionales de "punta" e "inclinación".