Alineador de máscara semiautomático EVG®610

para obleas

El EVG®610 es un sistema de I+D compacto y polivalente que puede manipular pequeñas piezas de sustrato y obleas de hasta 200 mm. La EVG610 soporta una variedad de procesos de litografía estándar, como los modos de exposición al vacío, duro, blando y de proximidad, con la opción de alineación por el reverso. Además, el sistema ofrece funciones adicionales, como la alineación de adhesivos y la litografía de nanoimpresión (NIL). La EVG610 ofrece un rápido procesamiento y reequipamiento para satisfacer las cambiantes necesidades de los usuarios con un tiempo de conversión de menos de unos pocos minutos. Su avanzado concepto multiusuario puede adaptarse desde el nivel de principiantes hasta el de expertos, lo que lo hace ideal para universidades y aplicaciones de I+D Características Tamaño de oblea/sustrato desde piezas de hasta 200 mm/8" Capacidad de alineación superior e inferior Etapa de alineación de alta precisión Secuencia de compensación de cuña automatizada Intervalo de exposición motorizado y controlado por receta Compatible con la última tecnología UV-LED Minimización del espacio ocupado por el sistema y de los requisitos de las instalaciones Guía paso a paso del proceso Soporte técnico remoto Concepto multiusuario (número ilimitado de cuentas de usuario y recetas, derechos de acceso asignables, diferentes idiomas de interfaz de usuario) Procesamiento ágil y reequipamiento de conversión Versión de sobremesa o independiente con mesa de granito anti-vibración Capacidades adicionales: Alineación de la unión Alineación IR Nanoimpresión litografía (NIL)