El apilamiento vertical de dispositivos semiconductores se ha convertido en un enfoque cada vez más viable para permitir mejoras continuas en la densidad y el rendimiento de los dispositivos. La unión de oblea a oblea es un paso esencial del proceso para permitir dispositivos apilados en 3D. El sistema integrado de unión por fusión GEMINI FB XT de EVG amplía los estándares actuales y combina una mayor productividad con una mejor alineación y precisión de superposición para aplicaciones tales como apilamiento de memoria, sistemas 3D en chip (SoC), apilamiento de sensores de imagen CMOS iluminados por la parte posterior y particionado de matrices. El sistema incluye el nuevo alineador de adhesivos SmartView NT3, desarrollado específicamente para los requisitos de alineamiento de adhesivos de fusión y de adhesivos de obleas híbridos de < 50 nm.
Características
Nuevo alineador de adhesivos cara a cara SmartView® NT3 con una precisión de alineación de oblea a oblea inferior a 50 nm
Hasta seis módulos de preprocesamiento como:
Limpiar el módulo
LowTemp™ Módulo de activación de plasma
Módulo de verificación de alineación
Módulo Debond
Concepto XT Frame para el máximo rendimiento con EFEM (Equipment Frontend Module)
Características opcionales:
Módulo Debond
Módulo de enlace de termocompresión
Datos técnicos
Diámetro de la oblea (tamaño del sustrato)
200, 300 mm
Número máximo de módulos de proceso
6 + SmartView® NT
Características opcionales
Módulo Debond
Módulo de enlace de termocompresión
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