Objetivo de microscopio zoom MXPLFLN series

para inspección de semiconductorescon óptica semiapocromática

Se ha usado una innovadora tecnología de fabricación para crear lentes de objetivo dotados simultáneamente de una apertura numérica mejorada, distancia de trabajo y corrección de la aberración. Su elevada apertura numérica (A. N.) y la distancia de trabajo de 3 mm mejoran el campo visual y la calidad de la imagen desde el centro hasta los flancos, lo que permite un rendimiento superior en la inspección automatizada de semiconductores. Hay lentes de 20X y 50X disponibles para campo claro.   Objetivos de plan semiapocromático MX con alta apertura numérica y larga distancia de trabajo: MXPLFLN • Diseñados para métodos de observación de campo claro, contraste de interferencia diferencial (DIC), fluorescencia y luz polarizada simple • Combinan una alta apertura numérica, una larga distancia de trabajo y planitud de imagen  • Disponibles en magnificaciones de 20X y 50X con una distancia de trabajo de 3 mm  MXPLFLN50X El objetivo MXPLFLN50X es nuestro primer objetivo de 50X con una apertura numérica de 0.8 y una distancia de trabajo de 3 mm. En comparación con un objetivo LMPLFLN100X, el campo visual es cuatro veces superior gracias a la apertura numérica de 0.8 en una magnificación de 50X. MXPLFLN20X El objetivo MXPLFLN20X es nuestro primer objetivo de 20X con una apertura numérica de 0.6 y una distancia de trabajo de 3 mm. Su amplitud numérica elevada y la gran planitud de las imágenes generan imágenes homogéneas que son ideales para la aplicación mosaico.