Espectrómetro ICP-OES EXPEC-6500

OESICPde laboratorio

El espectrómetro de emisión óptica de plasma acoplado inductivamente EXPEC-6500 adopta una tecnología de observación dual con antorcha vertical de nuevo desarrollo, que puede medir elementos de diferencias de contenido relativamente grandes en una matriz compleja. El espectrómetro de emisión óptica de plasma de acoplamiento inductivo EXPEC-6500 adopta una tecnología de observación dual con antorcha vertical de nuevo desarrollo, que puede medir elementos con diferencias de contenido relativamente grandes en una matriz compleja. La fuente de alimentación de RF de estado sólido autoexcitada patentada garantiza una excelente adaptabilidad del sistema a las muestras y ofrece un modo de espera de bajo consumo que reduce en gran medida el consumo de argón. El exclusivo sensor ECCD de alta sensibilidad y gran superficie ECCD de gran superficie aporta un mayor rendimiento al producto. Combinado con muchos años de experiencia de EXPEC sériés en el desarrollo de instrumentos de espectroscopia, el producto EXPEC-6500 ICP-OES ofrece un índice de estabilidad de 8 horas RSD de < 1%, y la preci- sión RSD del método estándar internai gemelo de < 0,1%, y por lo tanto le ofrece resultados de análisis estables y fiables. Una nueva generación de tecnología de observación dual con antorcha vertical. El producto EXPEC-6500 adopta una tecnología de observación dual de antorcha vertical de nuevo desarrollo, que reduce en gran medida el consumo de argón y el consumo de antorcha, y puede utilizarse para medir elementos con diferencias de contenido relativamente grandes en una matriz compleja. La antorcha vertical evita la deposición de sait alto, y la observación radial evita la interferencia de la matriz, con lo que se consigue una mayor sensibilidad y repetibilidad. La innovadora tecnología de observación vertical con altura ajustable puede optimizar la posición de observación para elementos différents.