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Solvente de limpieza
para los residuos de grabado

Solvente de limpieza - Fujifilm NDT Systems - para los residuos de grabado
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Características

Función
de limpieza
Aplicaciones
para los residuos de grabado

Descripción

Limpiadores Limpiadores acuosos de residuos posteriores a la ceniza en aleaciones de aluminio y cobre, capas antirreflectantes, SiO2 y dieléctricos de baja k Limpiadores acuosos de residuos de postcombustión altamente eficaces para procesos BEOL de Al/SiO2 y Cu/baja k. Las aplicaciones incluyen la eliminación de residuos de grabado en vías, líneas de metal y niveles de almohadilla de unión en aleaciones de Al, capas antirreflectantes y dieléctricos SiO2 o la eliminación de residuos de grabado en procesos de damasquinado con compatibilidad Cu, low-k y ultra-low-k. - Amplia latitud de proceso - Compatible con aplicaciones de pulverización y herramientas por lotes - Ventaja convincente en el coste de propiedad frente a los limpiadores basados en disolventes de hidroxilamina (HA) - Aclarado directo con agua desionizada - Elimina el coste químico del aclarado con IPA - Mayor rendimiento al eliminar los pasos de aclarado con IPA - Seguro y fácil de usar - Excelente compatibilidad con los materiales de los equipos de proceso - Compatibilidad superior con metales e ILD - Opciones de envasado: - Botella HDPE de 4 L - Bidón de 200 L - Eliminación de residuos de grabado en vías, líneas de metal y niveles de almohadilla de unión en aleaciones de Al, capas antirreflectantes y dieléctricos de SiO2. - Eliminación de residuos de grabado en procesos de damasquinado con compatibilidad Cu, low-k y ultra low-k.

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