Resina para semiconductores i-Line

fotosensible

Amplia serie de fotorresistencias de sensibilidad media para aplicaciones críticas y no críticas que abarcan una resolución de menos de 0,30 µm a más de 1,0 µm en diversos sustratos con una amplia gama de espesores de resistencia. Resumen del producto - Resistencias avanzadas i-Line para sustratos no reflectantes Familias de resistencias diseñadas para una exigente CD crítica (500 nm CD) y un robusto patronaje: - Serie OiR 305 - Serie OiR 366 - Serie OiR 906 - Serie OiR 907 - Resistencias multipropósito para líneas g e i Serie de resistencias que ofrecen un robusto patronaje para g-line, i-line y banda ancha (>800 nm CD): - Serie HiPR 6500 - Serie HPR 510 - Resistencias teñidas para sustratos altamente reflectantes Serie de resistivos que ofrecen densidades ópticas elevadas y sin blanqueo para el control de la CD y las muescas en sustratos altamente reflectantes: - OiR 906MD - OiR 906HD - OiR 305HC - HiPR 6500GH - HiPR 6500HC - Resistencias i-Line para aplicaciones más gruesas Serie de resistivos para necesidades de patronaje de películas más gruesas que van de 3 a 13 µm de grosor de película: - FHi-560EP - GiR 3114 - OiR 305 - OiR 908