El monitor multibanda de procesos de plasma C10346-01 es un sistema diseñado específicamente para monitorizar las emisiones ópticas de plasma que se crean durante los distintos procesos de fabricación de semiconductores, incluyendo el grabado, el sputtering, la limpieza y el CVD. El MPM puede manejar el registro multicanal en tiempo real.
Especificaciones
Número de tipo : C10346-01
Rango de longitud de onda : 200 nm a 950 nm
Precisión de la longitud de onda: ±0,75 nm
Resolución de la longitud de onda (FWHM) : <2 nm
Fuente de alimentación : AC100 V a AC240 V (50 Hz/60 Hz)
Consumo de energía : Aproximadamente 70 VA
Terminal de salida digital (salida de señal determinada) : TTL máximo 5 canales (3 canales máximo cuando se utiliza la señal de disparo de medición
Terminal de entrada digital (señal de disparo de medición inicial) : TTL 1 canal Usando TTL 5 canales
Terminal de salida digital (señal de ocupación) : TTL 1 canal Utilizando TTL 4 canales
Terminal de salida analógica : 2 canales 0 V a 10 V
Conector de sonda de fibra : SMA
Interfaz de comunicación : USB 2.0 Tipo B
Temperatura ambiente de funcionamiento : +10 ˚C a +30 ˚C
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