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Máquina de deposición T-aSi (Oxidation + a-Si)
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Descripción
Este sistema se utiliza para la deposición in situ de óxido y poli para la célula TOPCon que permite la captura selectiva de electrones mejorando su tasa de recombinación.
Espec
Alto rendimiento: 4.702 obleas/hora (640 obleas/barco)
Duración del ciclo: 49 min
Tiempo de actividad: 97
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