Hellma Materials CaF2 ha sido utilizado como material óptico clave en la microlitografía para la producción de semiconductores durante muchos años. CaF2 se ha establecido como un material estándar de la industria para la óptica láser excimer en la óptica de proyección e iluminación. Las propiedades ópticas únicas del CaF2 permiten una variedad de aplicaciones avanzadas.
Aplicaciones
Debido a su calidad óptica superior y a su excelente transmisión en rangos espectrales de UV, VIS e IR, Hellma Materials CaF2 puede ser utilizado en aplicaciones versátiles:
Óptica IR
Óptica para instrumentación astronómica
Óptica espacial
Óptica de microscopio
Óptica de espectroscopia
óptica UV
Ventanas láser
Óptica láser excimer
Óptica de microlitografía
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