Sistema de medición de birrefringencia Exicor® DUV series

El Exicor® DUV y 193 sistemas de DUV mide birrefringencia en las longitudes de onda ultravioletas profundas. El 2003 ?la concesión del R&D 100? que ganaba el sistema de Exicor DUV fue desarrollada para evaluar birrefringencia intrínseca en materiales de la lente del fluoruro del calcio (CaF2) en la longitud de onda del uso de 157 nanómetro. El Exicor subsecuente 193 focos de DUV en una variedad de materiales usados en 193 sistemas litográficos del nanómetro, especialmente inmersión 193 sistemas de la litografía del nanómetro que exigen la óptica más de alta calidad. Ambos sistemas satisfacen la medida en la longitud de onda del principio del uso exigida por los fabricantes ópticos de los materiales de la precisión que están empujando el sobre de la tecnología. Los sistemas DUV y 193DUV de Exicor son los sistemas primarios usados por el industryoptics principal de la litografía fabrican para medir birrefringencia en materiales del espacio en blanco de la lente y espacios en blanco del photo-mask en las longitudes de onda litográficas de DUV (157 nanómetro, 193 nanómetro, 248 nanómetro). Estos sistemas se construyen con un marco robusto y componentes resistentes del control del movimiento para la óptica que mide X.400 milímetro de hasta 400 milímetros y 200+ milímetro densamente. El sistema de Exicor DUV también utiliza un sistema localizado único de la dislocación del oxígeno en el compartimiento de la muestra porque la luz UV de 157 nanómetros es absorbida por las moléculas del oxígeno. Este ambiente purgado nitrógeno seco limpio también previene la generación del ozono en el compartimiento de la muestra de DUV. El purgar no se requiere para 193 248 del nanómetro medidas del nanómetro y. La etapa grande de la exploración de estos sistemas también permite piezas más pequeñas múltiples del cargamento en la etapa, con el software opcional de Exicor Macro+ ejecutando rutinas automatizadas para explorar cada parte individualmente.