Espectroscopio EV-140C

Este monitor de punto final del tipo de análisis de emisiones está pensado para la detección de puntos finales o el control de las condiciones del plasma en el proceso de capa fina de semiconductores basado en plasma. El nuevo algoritmo Rapture Intensity permite la detección precisa del punto final mediante la captura de cambios de señal débiles. La capacidad de captar cambios sutiles en la emisión ha mejorado significativamente la sensibilidad. La inmunidad al ruido mejorada garantiza un funcionamiento muy estable en entornos hostiles de líneas de fabricación que funcionan las 24 horas del día. Características Rejilla brillante con relación de apertura de F/2 Se consigue un sistema óptico brillante mediante el uso de una gran rejilla cóncava con corrección de aberraciones de 70 mm de diámetro fabricada por HORIBA Jobin Yvon. La capacidad de captación de luz de la propia rejilla cóncava permite la construcción de un sistema óptico sencillo que es más brillante que los espectroscopios Czerny-Turner y que puede minimizar la pérdida por reflexión causada por espejos y otras superficies reflectantes. Sensor lineal CCD retroiluminado que ofrece una alta sensibilidad y una alta resolución de 2.048 canales El CCD retroiluminado alcanza una alta eficiencia cuántica, lo que garantiza una espectroscopia estable en el amplio espectro que va desde la región UV a la visible. La medición de alta sensibilidad posible en la región UV, en particular, permite la detección de punto final en el rango de longitud de onda menos afectado por interferencias. Software Sigma-P para el control avanzado de procesos Este software ejecuta una serie de pasos necesarios para el control de procesos, desde el análisis del comportamiento del plasma hasta la creación de bases de datos de los datos medidos y el control remoto de los equipos de fabricación.