El disilicida de cobalto (CoSi2) tiene una baja resistividad y una buena estabilidad térmica. Actualmente se utiliza ampliamente como contacto en circuitos integrados a gran escala, y el CoSi2 tiene una estructura cristalina similar a la del Si, por lo que se puede formar CoSi2 epitaxial sobre un sustrato de Si/estructura de Si, utilizado para estudiar las características de la interfaz del silicio metálico epitaxial.
Peso molecular:115,104
Densidad:4,9 g/cm3
Color:gris
Punto de fusión:1326 °C
Punto de ebullición:5100ºC
EINECS (Nº EC):234-616-8
El disilicida de cobalto (CoSi2) tiene una baja resistividad y una buena estabilidad térmica. Actualmente se utiliza ampliamente como contacto en circuitos integrados a gran escala, y el CoSi2 tiene una estructura cristalina similar al Si, por lo que se puede formar CoSi2 epitaxial sobre un sustrato de Si / estructura de Si, utilizado para estudiar las características de la interfaz del silicio metálico epitaxial.
1.Alta pureza: la mayor pureza puede alcanzar el 99,99%, la DRX no detecta ninguna fase de impureza;
2.Distribución concentrada: distribución normal del tamaño de las partículas, no bimodal ni multimodal.
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