Sistema de litografía láser JBX-9500FS

El JBX-9500FS es un sistema EB de 100kV que proporciona un rendimiento y una precisión posicional de nivel mundial entre los sistemas de litografía de haz puntual. Este sistema EB puede alojar obleas de hasta 300 mm y máscaras de hasta 6 pulgadas, respondiendo así a las necesidades de I+D y producción en diversos campos, como la nanoimpresión, los dispositivos fotónicos y los dispositivos de comunicación. Características Además de la velocidad máxima de escaneado de 100MHz, el JBX-9500FS alcanza una precisión de superposición de ±11nm, una precisión de cosido de campo de ±10nm y una precisión posicional dentro del campo de ±9nm cuando el tamaño del campo es de 1000µm×1000µm. Así pues, el JBX-9500FS es un sistema EB de 100 kV que proporciona un rendimiento y una precisión posicional de nivel mundial entre los sistemas de litografía de haz puntual. Dado que el JBX-9500FS emplea un DAC de posicionamiento del haz de 20 bits y un DAC de exploración de 14 bits, se obtiene un paso de exploración de mayor resolución de 0,25 nm para un incremento de datos de escritura de 1 nm, reproduciendo así datos de escritura más precisos. Su alta velocidad de escaneado de hasta 100 MHz permite al JBX-9500FS mantener pasos de escaneado cortos en escritura de gran corriente, mejorando así el rendimiento incluso cuando se requiere una escritura de patrones de alta precisión. La máxima precisión posicional se consigue mediante el control del haz láser (LBC), que proporciona un paso de posicionamiento del haz mínimo de alta resolución de 0,15 nm (λ/4096). Además, la exclusiva función de autocalibración (función de corrección automática) desarrollada por JEOL consigue una escritura de patrones altamente fiable y estable durante un largo periodo de tiempo. La sincronización de la corrección automática puede ajustarse para cada campo o cada patrón. Esta función es muy eficaz para un largo período de escritura sin operador, por ejemplo en fines de semana o días festivos consecutivos.