Sistemas de metrología de películas
El sistema de metrología de película SpectraFilm™ F1 ayuda a conseguir estrictas tolerancias de proceso en los nodos de diseño de memoria de vanguardia y lógica de menos de 7 nm proporcionando mediciones de película fina de alta precisión para una amplia gama de capas de película. La fuente de luz de alto brillo acciona la tecnología de elipsometría espectroscópica, que proporciona la señal necesaria para medir con precisión el bandgap y ofrecer información sobre el rendimiento eléctrico semanas antes que el e-test. Los nuevos algoritmos FoG™ (Films on Grating) aumentan aún más la correlación de la medición con el dispositivo al permitir la medición de películas en una estructura de rejilla similar a la del dispositivo. Con un mayor rendimiento, SpectraFilm F1 ofrece una alta productividad, compatible con el aumento del número de capas de película asociado a las técnicas de fabricación de dispositivos de vanguardia.
Aplicaciones
Supervisión de banda prohibida, Análisis de ingeniería, Supervisión de procesos en línea, Supervisión de herramientas, Adaptación de herramientas de proceso
Productos relacionados
SpectraFilm LD10
El sistema de metrología de películas SpectraFilm™ LD10 proporciona mediciones fiables y de alta precisión del grosor, el índice de refracción y la tensión de películas finas y gruesas para una amplia gama de capas de películas en el nodo de diseño de 16 nm y más allá.
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