Sistema de medición óptico LMS IPRO series

para obleapara circuito integradopara control

Sistemas de metrología de registro de patrones de retícula El sistema de metrología de registro de retículas LMS IPRO7 está diseñado para proporcionar una verificación precisa y rápida del rendimiento de la colocación de patrones en retículas EUV y ópticas para el nodo de diseño de 7 nm. Al ofrecer una caracterización exhaustiva del error de colocación del patrón de la retícula, el LMS IPRO7 produce datos que se utilizan para las correcciones del escritor de máscaras de haz electrónico y el control de calidad de la retícula durante el desarrollo y la producción de retículas de nodos de diseño avanzados. Gracias al algoritmo de metrología basado en modelos patentado por KLA, el LMS IPRO7 mide con gran precisión el error de colocación de patrones tanto para objetivos como para múltiples características de patrones en el dispositivo, lo que permite caracterizar y reducir las contribuciones relacionadas con las retículas a los errores de superposición de dispositivos en la fábrica de circuitos integrados. Aplicaciones Cualificación de retículas, Control de calidad de retículas salientes, Cualificación y supervisión de escritores de máscaras, Supervisión del proceso de retículas, Control de patrones de obleas Productos relacionados LMS IPRO6: sistema de metrología de máscaras para el nodo de diseño de 10 nm, compatible con la medición tanto de marcas de registro estándar como de características de patrones en el dispositivo. LMS IPRO4: Sistema de metrología de máscaras para los nodos de diseño de 32 nm/28 nm. Con una capacidad de manipulación flexible única en el sector, el LMS IPRO4 admite tamaños de máscara de 4" a 8". Haga clic en el botón Póngase en contacto con nosotros para obtener más información sobre sistemas nuevos y reacondicionados.