Este sistema de tratamiento térmico realiza la oxidación, difusión y CVD de obleas de silicio, IGBT, poliimida y obleas finas. Dado que su altura es inferior a 3000 mm, este modelo puede introducirse fácilmente. Se caracteriza por un tiempo de ciclo corto y un alto rendimiento.
Características
Mini lote, procesamiento flexible de lotes de 25 a 50 obleas
Alto rendimiento mediante un calentador de alta potencia con un rápido tiempo de calentamiento
Equipada con un sistema de control de alto rendimiento de fácil manejo
Tamaño compacto sin almacenador
Este horno de difusión vertical de ciclo corto y alto rendimiento procesa obleas de 300 mm (12 pulgadas) en un mini lote de 25 a 50 obleas cada uno. Al eliminarse el espacio del stocker, su altura es inferior a 3000 mm, lo que facilita su introducción. Hay muchos casos en los que los hornos se introducen sin stockers, por lo que se pueden reducir los costes relacionados con el stocker. Gracias al calentador LGO, el horno presenta unas características de temperatura superiores en una amplia gama que va desde las temperaturas bajas hasta las medias altas. Es adecuado para el tratamiento térmico de IGBT, poliimida, obleas finas y otros materiales, además de las obleas de silicio.
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