Este horno es un sistema de tratamiento térmico para la oxidación, difusión y CVD de obleas de silicio, IGBT, poliimida y obleas finas. Como nuestro modelo estrella, este horno está equipado con un almacenador de gran capacidad y se caracteriza por un tiempo de ciclo corto.
Características
Procesamiento de lotes grandes, máx. 100 obleas por lotes
Máx. 16 stocks de FOUP
Excelente control de la temperatura, desde el rango de temperaturas bajo hasta el medio alto, mediante el uso de un calentador LGO
Transferencia de obleas de alta velocidad mediante el uso de un robot de manipulación de obleas individuales/cinco obleas
Equipado con un sistema de control de alto rendimiento y fácil de usar
Este horno de difusión vertical de producción en masa puede procesar un máximo de 100 obleas (300 mm / 12 pulgadas) o 16 FOUPs por lote. Se utiliza un calentador LGO para obtener unas características de temperatura superiores desde las bajas temperaturas hasta las medias altas. Además de obleas de silicio, el horno es adecuado para tratamientos térmicos de IGBT, poliimida, obleas finas y otros materiales.
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