Horno de tipo armario VF-5300

tratamiento térmicode recocidode oxidación

Este horno vertical con un almacenador incorporado procesa obleas de 8 pulgadas a temperaturas ultra altas en grandes lotes. Este horno es un sistema de tratamiento térmico de semiconductores que puede realizar oxidación, difusión, LPCVD, recocido de activación y otros tratamientos térmicos. Características Grandes lotes, máximo 150 obleas procesadas por lotes Un máximo de 20 existencias de obleas Excelente control de la temperatura, desde un rango de temperatura bajo hasta uno medio alto, mediante un calentador LGO Transferencia de obleas de alta velocidad mediante el uso de un robot de manipulación de obleas individuales/cinco Equipado con un sistema de control de alto rendimiento de fácil manejo Este modelo es un horno de difusión vertical de producción en masa y en continuo, equipado con un almacenador para un máximo de 150 obleas (8 pulgadas) o 20 casetes. Gracias al calentador LGO, este horno presenta unas características de temperatura superiores en un rango que va desde las bajas temperaturas hasta las temperaturas ultra altas. Este horno puede utilizarse para una amplia gama de procesamientos, desde el recocido a baja temperatura, el nitruro (Si3N4), el polisilicio (poli Si) y otros materiales LPCVD hasta la oxidación y la difusión. También puede utilizarse un calentador de disilicida de molibdeno (MoSi2) para apoyar la oxinitruración de la puerta de los dispositivos de potencia de SiC y otros procesamientos a temperaturas ultra altas.