Horno de cámara SO2-12-F

eléctricocon circulación de aire

Este horno limpio procesa obleas de 300 mm (12 pulgadas) para la producción de semiconductores. Con FOUPs, se pueden procesar 50 obleas de forma totalmente automática por cada cámara. El sistema puede utilizarse para el procesamiento a baja temperatura de poliimida y otros materiales. Características Horno de limpieza totalmente automático para el funcionamiento de FOUP Máximo 50 obleas por cámara Un robot disponible para 2 cámaras 2 FOUPs por cámara Transferencia de obleas a alta velocidad mediante un robot de manipulación de obleas doble Este horno limpio para la producción de semiconductores se ha desarrollado introduciendo el equipo de fabricación de FPD más vendido, el horno limpio para el procesamiento de obleas individuales. Este horno puede funcionar de forma totalmente automática utilizando FOUPs de 300 mm (12 pulgadas). se pueden procesar 50 obleas por cada cámara y se pueden instalar hasta 2 cámaras (se utilizan 2 FOUPs para cada cámara). En el procesamiento a baja temperatura de poliimida y otros materiales se consigue un alto rendimiento en un ciclo de tiempo corto.