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Horno de tipo armario VFS-4000
de recocidode cocciónde difusión

horno de tipo armario
horno de tipo armario
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Características

Configuración
de tipo armario
Función
de recocido, de difusión
Fuente de calor
de gas
Atmósfera
de vacío
Otras características
vertical, a presión, para la industria electrónica
Temperatura máxima

Máx.: 600 °C
(1.112 °F)

Mín.: 200 °C
(392 °F)

Ancho

2.000 mm
(78,74 in)

Alto

4.350 mm
(171,26 in)

Profundidad

2.000 mm
(78,74 in)

Descripción

Este horno vertical de gran calibre para 4,5G/5,5G se ha desarrollado aprovechando las tecnologías de los equipos de fabricación de semiconductores para la fabricación de sustratos de vidrio. Este horno es adecuado para procesos de sellado de fritas orgánicas (OLED/AMOLED) de baja compactación y deshidratación. Características El horno de difusión de semiconductores se ha modificado a una escala mayor para la pantalla plana Es posible el procesamiento a presión normal y el procesamiento por descompresión Varios tipos de atmósferas de gas (oxidación, reducción, neutro, corrosión, etc.) Tamaño máximo del sustrato: 1300 × 1500 mm El calentador LGO a gran escala tiene excelentes características de temperatura Este horno vertical de gran tamaño emplea un estricto control de las características de temperatura, control de la atmósfera y control de las partículas, experiencia para la fabricación de semiconductores, para FPD. Se utilizan botes de cuarzo para crear un entorno libre de partículas y metales que permita el tratamiento térmico al vacío con una concentración de O2 de 10 ppm o inferior. Este horno es adecuado para el recocido de contacto de paneles táctiles y otros materiales, el postcocción y el recocido de activación.

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Traducción automática  (ver el original en inglés)

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