Máquina de deposición PVD PVD 75

por pulverización catódicapor evaporación termicade vacío

FAVORABLE línea serie de PVD – farfulla versátil, haz electrónico, termal, y plataforma orgánica de la deposición de la evaporación La FAVORABLE línea serie de PVD utiliza un diseño modular configurable para una variedad de usos de la deposición de la película fina. Disponible en tres tamaños cada vez mayores de la cámara: PVD75, PVD200, y PVD500 Disponible con fuentes circulares compatibles de la farfulla del magnetrón del ™ UHV de TORUS® Mag Keeper en 2", 3", 4" diámetros Disponible con los magnetrones lineares de TORUS® Disponible con fuentes de la evaporación del haz electrónico del Multi-bolsillo Disponible con configuraciones termales múltiples de la fuente de la evaporación Hasta dos fuentes orgánicas de la evaporación disponibles opciones de la Multi-técnica disponibles. Ejemplos: Haz electrónico + farfullando, haz electrónico + evaporación Bombeo áspero mojado o seco, bomba de turbo, u opciones criogénicas del bombeo de alto vacío de la bomba disponibles Configuraciones estándar compatibles con hasta 11" a 20" substratos del OD (hasta que finalice tamaño de la cámara); hasta la calefacción 850°C, refrescando, y perjudicando las opciones disponibles Opciones solas y de la multi-oblea de la carga de cerradura disponibles para los substratos hasta 6" La FAVORABLE línea serie de herramientas de PVD incluye el paquete innovador del control avanzado del eKLipse™ de KJLC