La máquina de recubrimiento rotativo al vacío Vtc-200p es adecuada para el proceso de recubrimiento de superficies de semiconductores, cristales, discos ópticos, fabricación de placas, etc. Esta máquina se puede utilizar para la preparación de recubrimiento de ácido fuerte y solución de recubrimiento alcalino fuerte. La cavidad de la máquina de recubrimiento rotativo al vacío vtc-200p no puede ser aspirada. Cuando funciona, la muestra se fija en la bandeja de muestras por medio de la adsorción de la bandeja de vacío. El equipo puede almacenar 12 grupos de programas, cada grupo de programas incluye 6 etapas de operación. En las diferentes etapas de operación, el número de revoluciones del equipo es diferente, de modo que la velocidad del equipo se incrementa lentamente hasta la velocidad límite, lo que favorece la formación de una película uniforme del material de la película en la superficie de la muestra, sin desperdicio excesivo y ahorro de material. La cubierta superior de la cámara puede calentar la muestra (función opcional), lo cual es propicio para el proceso de recubrimiento del material de la película con alta viscosidad. La máquina de recubrimiento rotativo al vacío Vtc-200p tiene las ventajas de una operación simple, limpieza conveniente, tamaño compacto, etc., que se utiliza principalmente en el laboratorio de colegios y universidades, institutos de investigación científica para generar películas.
Características principales :
1. Hay 12 grupos de programas, cada grupo incluye 6 etapas de operación, el rango de ajuste de la tasa de aumento y disminución de cada sección es 100-2000rpm / s, y el rango de tiempo de cada sección es 0-60s.
2. La muestra se fija por adsorción de vacío, que es fácil de operar.
3. El grado de vacío de la ventosa puede alcanzar -0,08mpa.
4. Usando la herramienta de posicionamiento, la muestra puede ser fácilmente colocada en la posición central para reducir la vibración o el volante causado por la excentricidad.
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