Horno de cámara IT-GRV-330/350/2300

tubularde sublimaciónde crecimiento de cristal

crecimiento de cristales Para el crecimiento por transporte físico de vapor (PVT) de monocristales de SiC a granel según el método Lely modificado Otras aplicaciones podrían ser Síntesis de materia prima de SiC de gran pureza ESPECIFICACIONES DEL PRODUCTO Características más importantes Horno de inducción, diseño de carga superior crecimiento de cristales masivos de SiC de 4 Potencia de calentamiento MF 30 kW Frecuencia de trabajo 8-10 kHz Gases de proceso Nitrógeno, Argón, Hidrógeno, presión parcial de trabajo 5 - 950 mbar Cámara de vacío/estanca mediante montaje de tubo de vidrio doble refrigerado por agua Sistema de bomba de vacío para vacío 2 x 10-5 mbar con bomba turbomolecular (685 l/s) Aislamiento de fieltro de grafito de gran pureza (purificado con halógenos) Nosotros lo hacemos posible: Linn High Therm está especializada en adaptar sus productos a las necesidades del cliente. Háganos saber si necesita alguna modificación. Haremos todo lo posible para satisfacer sus deseos. Posibles opciones estandarizadas Rotación y desplazamiento del crisol Pirómetro de fondo de crisol Refrigeración por agua de emergencia Software de guiado del proceso Diseño del cargador de fondo Unidad de refrigeración por circulación Formación en crecimiento de cristales por un renombrado instituto de investigación alemán