Sistema de posicionamiento XY

rotativoláseral vacío

Indexador de obleas semiconductoras de 8 estaciones Este sistema fue diseñado específicamente para el procesamiento de haces de iones de obleas semiconductoras 2″ o 3″ a temperaturas elevadas. El sistema de indexación permite un control preciso de la posición de las obleas y permite el procesamiento por lotes de 8 obleas por pasada. Las obleas se giran hacia el calentador y se calientan en cuestión de segundos antes de que pueda comenzar el procesamiento del haz de iones. La temperatura es controlada por un pirómetro óptico que lee la temperatura de la superficie de la oblea calentada. Un gran puerto de acceso permite la conexión de la instrumentación del haz de iones. El horno es un sistema completo llave en mano con un sistema de vacío, sistema de gas inerte, servo controles de indexación, controles de temperatura y enfriamiento por agua.