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Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón PROvappor evaporación termicaasistida mediante haz de ionesde película fina
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Características
- Tecnología
- por pulverización catódica con magnetrón, por evaporación termica, asistida mediante haz de iones
- Tipo de deposición
- de película fina
- Otras características
- de vacío
- Aplicaciones
- para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones fotovoltaicas
Descripción
- Sistema integrado en la guantera
- Solución compacta y rentable
- Diseño de fácil configuración
- Co-deposición
- Uniformidad de hasta +/-3 % (con diseño geométrico específico de hasta +/1 %)
- Dos tamaños estándar: PROvap 4G y PROvap 5G
- Posibilidad de hasta 8 fuentes de deposición
- Tamaño del sustrato hasta 100x100 mm o diam. 100 mm (4") para PROvap 4G
- Tamaño del sustrato hasta 150x150 mm o diam. 150 mm (6") para PROvap 5G
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.