El Sense? de proceso es conveniente para determinar la terminación de la limpieza del compartimiento del plasma, en semiconductor y compartimientos de la deposición. El analizador de la presión reduce al mínimo la erosión del compartimiento, debido a overcleaning. Consecuentemente, el servicio de la vida del compartimiento es extendido.
El dispositivo se diseña de una absorción infrarroja, que es eficiente para todas las limpiezas del plasma. Se ofrece en kits de mejora completos, para las herramientas del CVD de AMAT.
Puede ser utilizado en diversos usos que implican los óxidos del silicio, nitruros de silicio, polysilicon y en silane o procesos de TEOS.
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