Sistema de litografía láser Quantum X

Nanoscribe Quantum X es el primer sistema de litografía de dos fotones en escala de grises del mundo para la microfabricación sin máscara de microópticos refractivos y difractivos Experimente el nuevo Quantum X El flamante sistema Nanoscribe Quantum X está diseñado para la microfabricación de prototipos y masters en procesos de producción industrial. Este sistema de litografía sin máscara redefine la fabricación de microóptica de forma libre, matrices de microlentes y elementos ópticos difractivos de varios niveles. El primer sistema de litografía de dos fotones en escala de grises (2GL ®) del mundo combina el extraordinario rendimiento de la litografía en escala de grises con la precisión y flexibilidad de la tecnología pionera de polimerización de dos fotones de Nanoscribe. Quantum X ofrece alta velocidad, plena libertad de diseño y la precisión necesaria para la fabricación aditiva de estructuras complejas que requieren una gran precisión de forma y superficies ultralisas. Los procesos de fabricación aditiva rápidos y precisos acortan drásticamente los ciclos de iteración del diseño y permiten una microfabricación rentable. Litografía de dos fotones en escala de grises Esta innovadora tecnología combina la microfabricación aditiva con el ajuste ultrarrápido del tamaño del vóxel: La litografía de dos fotones en escala de grises (2GL) abre el camino a la microfabricación ultrarrápida, precisa y de forma libre sin comprometer la velocidad ni la precisión. Quantum X controla el tamaño de los vóxeles a lo largo de un plano de escaneado mediante la modulación sincronizada de la potencia del láser a altas velocidades. De este modo, se producen formas complejas y se consiguen alturas de rasgos variables dentro de un campo de escaneado.